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삼성전자, 10나노 로직 공정 양산

  • 등록 2016.10.17 15:59:00
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ⓒGetty images Bank

[헬로티]
삼성전자가 10나노 로직 공정 양산을 시작하며 시스템 반도체 분야에서 최첨단 공정 리더십을 확보했다.

 

삼성전자는 지난해 1월 모바일AP에서 14나노 공정 양산을 시작한 데 이어, 이번에는 시스템 반도체에서 10나노 공정 양산에 돌입했다. 이번에 양산을 시작한 10나노 1세대 공정은 기존 14나노 1세대 대비 성능은 27% 개선하고 소비전력은 40%를 절감했으며 웨이퍼당 칩 생산량은 약 30% 향상됐다.

 

삼성전자의 10나노 로직 공정이 적용된 제품은 내년 초 출시될 IT 신제품 탑재를 시작으로 다양한 고객과 제품으로 확대될 예정이다.

 

삼성전자는 10나노 1세대(10LPE) 공정 양산을 시작으로 2017년 성능을 향상시킨 2세대(10LPP) 공정 양산 목표로 개발 중이며 2세대 이후에도 지속적인 성능개선과 파생공정 확대를 통해 10나노 공정을 장기간 활용할 계획이다.

 

윤종식 삼성전자 부사장은 “이번 10나노 로직 공정 양산으로 삼성전자의 미세 공정기술 수준을 확인했다”며, “앞으로도 지속적인 기술혁신을 통한 미세 공정 기술 확보로 시스템 반도체 사업을 발전시켜 나갈 것”이라고 밝혔다.

 

김지환 기자 (ueghqwe@hellot.net)






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