iXsenic ES는 에칭 스토퍼로서 365 나노미터에서도 직접 패터닝이 가능하며, 수산과 알루미늄산을 비롯한 여러 화학 물질에도 잘 견디는 특성을 지닌다. 이 기술은 실리콘 및 플렉시블 기판 위에 적용돼 최저 200도에서도 전자 이동성이 활발하다. 한편 iXsenic S 유리 기판 기술은 350도에서도 작동하며 고열과 거친 환경에도 안정적인 성능을 발휘한다.
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☎02-320-4700 www.evonik.com
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