오토메이션월드-대한민국 1등 산업매거진 '자동화기술'

일반뉴스 삼성, 3분기 D램 시장 점유율 43.9%로 세계 1위 유지

헬로티 서재창 기자 | 삼성전자의 D램 시장 점유율이 올해 3개 분기 연속 늘어난 것으로 나타났다. 올해 호황기를 누린 D램 시장이 4분기부터 가격 하락세와 함께 다운사이클로 전환됐지만, 시장에서는 애초 예상보다 D램 가격 하락 폭이 제한적일 것이라는 긍정적인 전망이 나온다. 21일 시장조사기관 옴디아에 따르면, 삼성전자의 올해 3분기 D램 시장 점유율은 43.9%로 전 세계 1위 자리를 유지했다. 삼성전자의 D램 시장 점유율은 지난해 4분기 41.0%에서 올해 1분기 41.2%, 2분기 43.2%, 3분기 43.9%로 3개 분기 연속 상승세를 보였다. 2위 기업인 SK하이닉스와의 점유율 격차는 지난해 4분기 11.7%포인트(p)에서 올해 1분기 12.4%p, 2분기 15.0%p, 3분기 16.3%p로 꾸준히 확대됐다. 특히 삼성전자의 D램 매출액은 평균판매가격(ASP) 상승과 출하량 증가 영향으로 대폭 늘었다. 삼성전자의 올해 3분기 D램 매출은 115억3000만 달러(약 13조7299억 원)로, 지난해 동기(약 8조5366억 원)보다 60.8% 증가한 것으로 조사됐다. 아울러 삼성전자는 지난 10월부터 업계 최소 선폭인 14나노미터 EUV(극자외선) 공정
- 서재창 기자
- 2021-12-21 11:47
일반뉴스 삼성전자, EUV 공정 적용한 14나노 DDR5 D램 양산 돌입

헬로티 조상록 기자 | 삼성전자가 EUV(극자외선, Extreme Ultra-Violet) 공정을 적용한 업계 최선단 14나노 D램 양산에 들어갔다. 삼성전자는 2020년 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에게 공급한 바 있으며, 업계에서 유일하게 EUV 멀티레이어 공정을 적용해 최선단 14나노 D램을 구현하는 등 차별화된 공정 기술력을 선보이고 있다. 삼성전자는 반도체 회로를 보다 세밀하게 구현할 수 있는 EUV 노광 기술을 적용해 D램의 성능과 수율을 향상시켜, 14나노 이하 D램 미세 공정 경쟁에서 확고한 우위를 확보해 나갈 계획이다. 5개의 레이어에 EUV 공정이 적용된 삼성전자 14나노 D램은 업계 최고의 웨이퍼 집적도로 이전 세대 대비 생산성이 약 20% 향상됐다. 또한, 삼성전자 14나노 D램 제품의 소비전력은 이전 공정 대비 약 20% 개선됐다. 삼성전자는 이번 신규 공정을 최신 DDR5(Double Data Rate 5) D램에 가장 먼저 적용한다. DDR5는 최고 7.2Gbps의 속도로 DDR4 대비 속도가 2배 이상 빠른 차세대 D램 규격으로 최근 인공지능, 머신러닝 등 데이터를 이용하는 방식이 고도화 되면서 데이
- 조상록 기자
- 2021-10-12 19:22
일반뉴스 SK, '25년까지 첨단소재에 5조원 투자…구체적인 투자 분야는?

헬로티 조상록 기자 | SK그룹의 투자 전문 지주사인 SK와 자회사들이 2025년까지 차세대 배터리 등 첨단소재 사업에 총 5조1,000억원을 투자한다. SK는 9월 15일 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 기업설명회를 열고 '첨단소재 사업의 중장기 성장전략'을 발표했다. SK는 "기존 사업과의 시너지 및 선제적 투자를 통해 미래 핵심 소재 선점을 추진 중"이라며 "고부가, 고성장 신규 영역에 대한 적극적인 투자, 글로벌 협업, 인수·합병을 통해 글로벌 소재 기업으로 도약하겠다"고 말했다. SK는 투자 지분 가치를 올해 7조원에서 2025년 25조원이상으로, 상각 전 영업이익(EBITDA)을 1조1,000억원에서 3조4,000억원으로 확대한다는 목표를 세웠다. SK와 자회사는 반도체 소재 사업에 2조7,000억원, 화합물 배터리 소재에 1조원, 차세대 배터리 소재에 1조4,000억원을 투자한다. SK가 지분을 보유 중인 글로벌 1위 동박 제조사인 왓슨도 1조원을 자체적으로 투자한다. SK는 실리콘 웨이퍼의 생산량을 증대하고, EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 포토 등의 핵심 소재 국산화를 추진할 계획이다. 차세대 양극재를 연 5만t을
- 조상록 기자
- 2021-09-15 19:19
일반뉴스 ASML 방문한 여한구 본부장, 한-네 반도체 공급망 재확인

헬로티 서재창 기자 | 여한구 산업통상자원부 통상교섭본부장은 지난 8월 31일(화) 경기도 화성시에 소재한 네덜란드 반도체 장비기업 ASML의 한국지사인 ASML코리아를 방문했다. ASML은 세계에서 유일하게 극자외선(EUV) 노광장비를 공급하는 기업으로, ASML코리아는 한국내 반도체 제조 기업에 공급된 장비의 재제조, 유지 관리 등 역할을 수행하고 있다. 이날 여 본부장은 ASML코리아의 EUV·DUV 재제조센터, 엔지니어 트레이닝 센터 등을 둘러보고, 기업 관계자 간담회를 개최해 한-네덜란드 반도체 공급망 협력 현황을 점검했다. 특히, 금일 방문에는 요안나 도너바르트 주한네덜란드 대사도 참석하여 (한)반도체 생산-(네)핵심 반도체장비 공급으로 연결되는 글로벌 반도체 공급망 협력의 안정성 및 회복력을 재확인하고, 향후 보다 체계적인 협력을 다짐했다. 한국과 네덜란드간 반도체 협력은 지난 7월에 개최된 한·네 정상회담에서 핵심 의제로 다뤄진 바, 양국 정상은 반도체 공급망의 상호보완적 핵심 파트너로 앞으로 더욱 긴밀히 공조할 것을 약속한 바 있다. 여 본부장은 “반도체와 관련 소·부·장 분야는 전세계적 공급망 재편과 기술패권 경쟁에 대응해 우리의 산업·기술
- 서재창 기자
- 2021-09-01 16:19
일반뉴스 '매출 10조 돌파' 2분기 실적과 ESG 모두 잡은 SK하이닉스

헬로티 서재창 기자 | SK하이닉스는 올해 2분기에 매출액 10조3217억 원, 영업이익 2조6946억 원(영업이익률 26%), 순이익 1조 9884억 원(순이익률 19%)의 경영실적을 기록했다고 27일 밝혔다. SK하이닉스는 올해 초부터 개선되기 시작한 메모리 시장 업황이 2분기에도 지속돼 분기 매출액 10조 원 이상을 기록했다. 이는 메모리 시장이 초호황기였던 2018년 3분기 이후 3년만이다. SK하이닉스는 PC, 그래픽, 컨슈머용 메모리 수요가 크게 늘었고, 서버용 메모리 수요도 회복된 것이 실적 개선을 이끌었다고 설명했다. 또한, 10나노급 2세대(1y)와 3세대(1z) D램, 128단 낸드플래시 등 첨단 공정 제품이 잘 팔려 원가 경쟁력도 올라갔다. 이를 통해 매출액은 전분기 대비 22%, 영업이익은 103% 증가했다. SK하이닉스는 올해 하반기에도 수요가 지속적으로 늘고 계절적 성수기임을 감안해 메모리 시장이 좋은 흐름을 이어갈 것으로 전망했다. 특히 낸드플래시에서는 고용량을 탑재한 모바일 신제품을 출시하고, 기업용 SSD 수요도 더욱 늘어날 것으로 내다봤다. SK하이닉스는 올 하반기에 D램에서 기술 경쟁력을 유지하고, 낸드플래시에서 수익성을 높
- 서재창 기자
- 2021-07-27 09:41
산업동향 '슈퍼사이클' 예고된 D램, 내년부터 첨단 공정으로 승부수

[헬로티] 삼성·SK, 내년 고가의 EUV 장비 적용한 차세대 D램 양산 돌입 시스템 반도체에서 메모리로 기술 확대…EUV 확보 전쟁도 치열할 듯 글로벌 D램 시장이 내년부터 '슈퍼 사이클'(장기 호황기)에 진입할 것이라는 예상이 주를 이루는 가운데 내년 중 세계 최초로 극자외선(EUV) 공정을 도입한 차세대 D램이 출시되면서 시장판도 변화가 예상된다. 그동안 시스템 반도체 공정에 활용하던 첨단 EUV 기술이 메모리 반도체까지 확대 적용되면서 D램 생산성 향상 경쟁은 물론 EUV 노광 장비 확보 전쟁도 가속화 할 것이라는 전망이 나온다.' 사진. 삼성전자가 지난 8월 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인을 가동했다. 이 라인에서는 첫 EUV 공정을 적용한 LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. (출처: 연합뉴스) 14일 반도체 업계에 따르면 내년부터 세계 D램 생산 1, 2위를 점유하고 있는 삼성전자[005930]와 SK하이닉스[000660]가 EUV 노광장비로 생산한 차세대 D램 공급을 본격화한다. EUV 공정은 반도체 포토 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 것으로, 기존 불화아르곤(ArF)의 광원보다 파장의 길이가 짧
- 김진희 기자
- 2020-12-14 22:49
산업동향 삼성, '세계1위' TSMC 추격 박차...'75조' 세계 파운드리 시장을 잡아라

[헬로티] 삼성전자 "2022년 3나노 제품 양산"…2030년까지 시스템반도체 1위 목표 올해 75조원 규모까지 성장한 세계 반도체 위탁생산(파운드리) 시장에서 후발주자인 삼성전자가 시장 점유율 1위 대만 TSMC를 추격하는데 박차를 가하고 있다. 22일 외신과 업계에 따르면 삼성전자 파운드리사업부 박재홍 부사장은 최근 '세이프(SAFE·Samsung Advanced Foundry Ecosystem) 포럼'에서 2022년까지 3㎚(나노미터·100만분의 1㎜) 첨단공정 반도체를 대규모 양산하겠다고 공식화했다. '3나노'는 반도체 회로 선폭을 의미하는데, 선폭이 좁을수록 소비전력이 감소하고 처리 속도가 향상된다. 올해 2분기 삼성전자가 양산에 착수한 5나노 제품과 비교할 경우 3나노 제품은 칩 면적을 35％ 이상 줄일 수 있고, 소비전력을 50％ 감소시키면서도 성능은 30％ 향상할 수 있다. 세계 최대 파운드리 업체 TSMC 역시 2022년까지 3나노 반도체를 양산하겠다는 목표를 밝힌 바 있어 양산 시점에서 어떤 기업이 승기를 잡을지는 미지수다. 세계 파운드리 시장은 재택근무와 원격교육, 5G 스마트폰 확산 등에 따른 반도체
- 김진희 기자
- 2020-11-22 14:09
일반뉴스 삼성전자, 평택에 EUV 파운드리 생산라인 구축 ‘TSMC와 5나노 공정 경쟁”

[헬로티] 삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 5나노 공정을 위한 파운드리 생산 시설을 구축한다. 삼성전자는 2020년 2월 EUV 전용 화성 ‘V1 라인’ 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다. ▲삼성전자 평택캠퍼스 항공 사진 이번 투자는 삼성전자가 2019년 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치의 하나로 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다. 반도체 비전 2030에는 133조원을 투자해 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 내용이 담겼다. 삼성전자는 5월 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다. 삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해
- 이나리 기자
- 2020-05-21 16:33
일반뉴스 ‘다목적 방사광 가속기’ 구축 기반 생기다…EUV 기술로 산업 지각변동 예고

[첨단 헬로티 = 김동원 기자] 강원도와 춘천시가 ‘다목적 방사광 가속기’ 구축에 나섰다. 강원도와 춘천시는 7일(화) 도청 본관 소회실에서 ‘다목적 방사광가속기 구축’을 위해 EUV 관계자들과 업무협약을 체결했다고 밝혔다. ▲ 왼쪽부터 최문순 강원도지사_안진호 한양대 EUV-IUCC 센터장_이재수 춘천시장 (사진 : 강원도) 이번 업무협약으로 강원도는 1조 원 대에 이르는 신규 방사광가속기 국가 공모사업에 적극 참여할 계획이다. 협약식에는 최문순 강원도지사, 이재수 춘천시장, 안진호 한양대 EUV-IUCC(극자외선-산학협력연구센터) 센터장 등이 참석했다. 다목적 방사광가속기 신규 구축사업은 2028년 운영을 목표로 2022년부터 6년간 1조원대의 사업비를 투자하여 반도체, 바이오, 에너지와 같은 첨단산업과 과학기술 분야의 기초원천연구를 지원할 예정이다. 방사광가속기는 비아그라, 타미플루와 같은 신약 개발 등 의학 분야에 큰 성과를 나타낸데 이어 에너지, 반도체, 자동차와 같은 산업기술의 발전에도 크게 기여할 것으로 기대되고 있다. 특히, 방사광가속기는 우리나라 대표 산업 중 하나인 반도체 분야에서 성과가 기대된다.
- 김동원 기자
- 2020-04-07 13:57
일반뉴스 삼성전자, 낸드 이어 D램에 EUV 공정 업계 최초 적용…100만개 모듈 공급 완료

[첨단 헬로티] 삼성전자가 메모리 반도체 업계 최초로 D램에 EUV 공정을 적용해 양산 체제를 갖췄다. 이로써 삼성전자는 차세대 D램 제품부터 ‘EUV 공정’을 전면 적용해 반도체 미세공정의 한계를 돌파할 채비를 갖추고 D램의 새로운 패러다임을 제시할 예정이다. 삼성전자는 EUV 공정을 적용해 생산한 1세대(1x) 10나노급(1나노 : 10억분의 1미터) DDR4(Double Data Rate 4) D램 모듈 100만개 이상을 공급해 글로벌 고객의 평가를 완료했다. ▲삼성전자 DS부문 V1라인 EUV 노광 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄이면서 패터닝 정확도를 높이게 되어 성능과 수율을 향상시키고 제품 개발 기간을 단축할 수 있는 장점이 있다. 삼성전자는 현재 EUV 공정으로 14나노 초반대 ‘4세대 10나노급(1a) D램 양산 기술’을 개발하고 있으며, 향후 차세대 제품의 품질과 수율도 기존 공정 제품 이상으로 향상시킬 예정이다. EUV를 이용해 만든 4세대 10나노급(1a) D램은 1세대 10나노급(1x) D램보다도 12인치 웨이퍼당 생산성을 2
- 이나리 기자
- 2020-03-25 14:53
인사동정 [인사] 램리서치코리아, 김성호 신임 대표이사 취임

[첨단 헬로티] 반도체 웨이퍼 제조 장비 및 서비스를 공급하는 램리서치는 김성호 사장을 램리서치의 한국 법인인 램리서치코리아, 한국램리서치, 램리서치매뉴팩춰링코리아의 대표이사로 선임했다고 23일 밝혔다. ▲램리서치코리아 김성호 신임 대표이사 김성호 신임 대표이사는 1993년부터 1996년까지 미국 캘리포니아 프리몬트에 위치한 램리서치 본사에서 프로세스 엔지니어를 시작으로, 사업개발 수석 디렉터를 담당하며 전세계 반도체 고객사들에 대한 지원 업무를 지휘했다. 2008년부터 램리서치코리아 고객지원 비즈니스 그룹 및 글로벌 고객 부문장을 거쳐, 지난 2019년부터는 램리서치코리아 사장직을 수행했다. 김성호 신임 대표이사는 “램리서치는 고객의 성공을 최고의 가치로 두고 있다.”며, “고객과 함께 성장한 40년 혁신의 역사와 기술을 바탕으로 고객에게 최고의 생산성을 제공할 수 있는 믿을 수 있는 성장 동반자가 될 것”이라고 말했다. 한편, 김성호 신임 대표이사는 패러다임 테크놀로지, 삼성반도체 미주법인, 도시바 반도체 미주법인과 어플라이드 머티리얼즈 본사 메탈 에칭 사업부 디렉터 등 반도체 기술 분야에서 폭넓은 경험을 쌓기도
- 이나리 기자
- 2020-03-23 13:30
일반뉴스 미세공정 한계의 열쇠, ‘반도체 EUV 기술 글로벌 컨퍼런스’ 6월 19일 개최

[첨단 헬로티] 반도체 미세공정 한계를 극복할 수 있는 기술로 평가받는 ‘극자외선(EUV:Extreme Ultra Violet)’에 대한 이해도가 한 단계 높아질 전망이다. 한국반도체연구조합은 오는 6월 19일, 서울 양재동 엘타워 7층에서 ‘반도체 EUV 기술 글로벌 컨퍼런스’를 개최한다고 밝혔다. 이번 컨퍼런스에서는 삼성전자와 SK하이닉스 등 EUV 생태계에 속한 국내외 다양한 소자 장비 재료 회사가 참가한다. 또, 멘토 지멘스 비즈니스, KLA, 에드워드, JSR-EM, 칼자이스 SMT, 인테그리스 등에서는 본사에서 전문가가 참석해 최신 기술 동향을 공유하고, 국내 기업인 에프에스티와 에스앤에스텍도 현재 개발 중인 EUV 기술을 알릴 방침이다. 컨퍼런스에서는 6월 10일(현지시간)부터 13일까지 미국 캘리포니아에서 열리는 ‘2019 EUVL 워크숍(euvlitho.com)’의 주요 발표를 되짚는 리뷰 세션도 마련됐다. EUV는 포토 리소그래피(Photo Lithography)라 부르는 노광(露光) 공정에 사용된다. 노광은 웨이퍼에 빛을 쬐여 회로 패턴을 그리는 공정이다. EUV는 빛 파장이
- 김동원 기자
- 2019-05-30 08:45
일반뉴스 삼성전자, 새로운 3나노까지 파운드리 로드맵 공개

[첨단 헤로티] 삼성전자는 2018년 5월 22일 미국 Santa Clara 메리어트 호텔에서 '삼성 파운드리 포럼 2018(Samsung Foundry Forum 2018)'을 개최하고 파운드리 사업전략과 첨단 공정 로드맵, 응용처별 솔루션에 대해 발표했다. ‘삼성 파운드리 포럼 2018’은 팹리스 업계 고객사, 파트너사, 애널리스트 등 약 500명이 참석한 가운데 진행됐으며, 매년 확장되는 파운드리 시장 규모와 차별화된 기술력을 바탕으로 향후 파운드리 사업의 비전을 제시했다. 또한 주력 양산 공정인 14/10나노 공정, EUV를 활용한 7/5/4나노 공정에서 새롭게 3나노 공정까지의 로드맵을 공개하며, 향후 광범위한 첨단 공정 개발과 설계 인프라, SAFE(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)의 지속 확장에 대해 발표했다. 정은승 삼성전자 파운드리사업부 사장 7LPP(7나노 Low Power Plus)은 EUV 장비를 적용한 최초 로직 공정이며, 2018년 하반기 시험생산해 2019년 상반기 생산 목표로 개발 중이다. 5LPE(5나노 Low Power Early)은 스마트 스케일링(Smart Scaling)
- 이나리 기자
- 2018-05-23 09:07
일반뉴스 삼성전자, 퀄컴과 EUV 적용 7나노 공정 5G 칩 생산 협력 추진

[첨단 헬로티] 10나노 공정 대비 면적40% 축소, 성능 10% 또는 전력효율 35% 개선 삼성전자가 퀄컴과 7나노 파운드리 공정(7LPP, Low Power Plus) 기반 5G 칩 생산을 협력하기로 했다. 삼성전자는 7나노 공정부터 차세대 노광장비인 EUV(Extreme Ultra Violet)를 적용할 예정으로, 삼성전자와 퀄컴은 14나노/10나노에 이어 7나노까지 협력 관계를 확대하기로 했다. 삼성전자는 지난해 5월 EUV 노광 기술을 적용한 7나노 파운드리 공정을 선보이는 등 EUV 기술을 적극 도입하고 있으며, 앞으로도 초미세 공정의 한계를 극복해 기술 리더십을 확고히 해 나갈 계획이다. 삼성전자의 7나노 공정은 10나노 공정 대비 면적을 40% 축소할 수 있고, 성능 10% 향상 및 동일 성능에서 35% 향상된 전력 효율을 제공한다. 삼성전자의 7나노 공정 기반 퀄컴의 5G 솔루션은 뛰어난 성능과 함께 작은 칩 사이즈를 통해 모바일 기기 제조사들이 보다 큰 대용량 배터리를 탑재하거나, 슬림한 디자인을 구현 할 수 있도록 했다. 퀄컴의 구매 총괄 수석 부사장 RK 춘두루 (RK Chunduru)는 "삼성의 7LPP 공정을 적용한 퀄컴의 5G 솔루
- 김진희 기자
- 2018-02-25 00:38
일반뉴스 삼성전자, 최첨단 반도체 라인 경기도 화성에 착공...2020년부터 본격 가동 전망

[첨단 헬로티] EUV 생산 라인 구축해 7나노 이하 미세공정 기술 리더십 강화...모바일, 서버 등 고성능/저전력 특성이 요구되는 첨단 반도체 시장 대응 삼성전자가 지난 23일 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 열고 본격적으로 라인 건설에 착수했다. 이번에 착공하는 화성 EUV라인은 2019년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 가동을 시작할 예정이다. 이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선)장비가 본격 도입될 예정으로 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상된다. 반도체 산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력효율을 향상시켜왔다. 그러나 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 되었다. EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일
- 김진희 기자
- 2018-02-24 23:28

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#EUV

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일반뉴스 삼성전자, 퀄컴과 EUV 적용 7나노 공정 5G 칩 생산 협력 추진

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