일반뉴스 기계연, 400nm급 레이저 직접 리소그래피 장비 국산화 제작

헬로티 서재창 기자 | 한국기계연구원(이하 기계연)이 국내 최초로 400㎚급 레이저 직접 리소그래피 장비 국산화에 성공했다. 반도체 생산성을 획기적으로 개선하는 기술로 기대를 모은다. 기계연 나노공정장비연구실 이재종 연구위원과 임형준 책임연구원 연구팀은 400㎚ 수준의 미세한 초점을 초당 40㎜ 속도로 이동하며 기판 위에 코팅된 레지스트를 가공하는 레이저 리소그래피 장비를 개발했다. 레이저 리소그래피는 기판 위에 레지스트에 레이저 빔의 초점을 맞추면, 레지스트가 빛에 의해 반응해 경화되면서 매우 작은 형상을 만들어내는 기술이다. 연구팀은 다양한 레이저 중 파장이 405㎚ 인 청자색 레이저 다이오드를 이용해 400㎚ 크기의 아주 미세한 초점을 만들고 이를 이용해 기판을 가공하는 데 성공했다. 연구팀이 개발한 장비를 이용하면 레이저 초점이 크기 200㎜의 기판 위를 초당 40㎜ 속도로 이동하면서 마치 도화지 위에 가느라단 펜으로 그림을 그리듯이 가공할 수 있다. 이에 더해 작은 초점으로 넓은 면적에 적용하면서 길어지는 공정시간을 단축하기 위해 공정의 선폭을 최대 50배까지 키우는 기술을 고안하고, 특허도 출원했다. 나노 수준의 리소그래피 기술은 차세대 반도체 리

• 서재창 기자
• 2021-08-12 13:28