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일반뉴스 TSMC, 내년 여름 3나노 반도체 양산 발표...삼성은 어떻게?

헬로티 서재창 기자 | TSMC가 기존 예상보다 1년 이른 내년 여름 삼성전자를 제치고 세계 최초로 3㎚ 반도체 양산에 들어간다고 대만 연합보(聯合報)가 10일 현지 공급망 소식통을 인용해 보도했다. 보도에 따르면 TSMC는 인텔의 주문을 받아 3㎚ 공정이 적용된 서버용 중앙처리장치(CPU)와 그래픽처리장치(GPU) 생산을 준비 중이다. TSMC는 내년 2월부터 대만에서 3㎚ 공정 생산라인을 가동해 7월부터 인텔이 주문한 CPU와 GPU를 양산할 계획이다. 계획대로라면 TSMC는 파운드리 경쟁사인 삼성전자를 제치고 세계 최초로 초미세 공정에 해당하는 3㎚ 반도체 제품을 생산하는 기업이 된다. 이는 기존 시장의 예측을 1년 이상 앞당긴 것이라고 연합보는 전했다. 현재 TSMC와 삼성전자는 모두 5㎚ 공정이 적용된 시스템 반도체 제품을 양산 중인 가운데 차세대 미세 공정 기술 연구·개발 경쟁도 치열하게 전개되고 있다. 연합보는 "이는 인텔이 3㎚ 공정 기술에서 TSMC가 삼성보다 앞선다는 점을 인정한 것으로서 (TSMC의) 선도 지위를 더욱 강화하게 될 것"이라고 의미를 부여했다. 연합보는 또 TSMC가 내년 6월부터는 애플의 주문을 받아 3㎚ 애플리케이션 프로

서재창 기자

2021-08-11 10:48

일반뉴스 미세공정 한계의 열쇠, ‘반도체 EUV 기술 글로벌 컨퍼런스’ 6월 19일 개최

[첨단 헬로티] 반도체 미세공정 한계를 극복할 수 있는 기술로 평가받는 ‘극자외선(EUV:Extreme Ultra Violet)’에 대한 이해도가 한 단계 높아질 전망이다. 한국반도체연구조합은 오는 6월 19일, 서울 양재동 엘타워 7층에서 ‘반도체 EUV 기술 글로벌 컨퍼런스’를 개최한다고 밝혔다. 이번 컨퍼런스에서는 삼성전자와 SK하이닉스 등 EUV 생태계에 속한 국내외 다양한 소자 장비 재료 회사가 참가한다. 또, 멘토 지멘스 비즈니스, KLA, 에드워드, JSR-EM, 칼자이스 SMT, 인테그리스 등에서는 본사에서 전문가가 참석해 최신 기술 동향을 공유하고, 국내 기업인 에프에스티와 에스앤에스텍도 현재 개발 중인 EUV 기술을 알릴 방침이다. 컨퍼런스에서는 6월 10일(현지시간)부터 13일까지 미국 캘리포니아에서 열리는 ‘2019 EUVL 워크숍(euvlitho.com)’의 주요 발표를 되짚는 리뷰 세션도 마련됐다. EUV는 포토 리소그래피(Photo Lithography)라 부르는 노광(露光) 공정에 사용된다. 노광은 웨이퍼에 빛을 쬐여 회로 패턴을 그리는 공정이다. EUV는 빛 파장이

김동원 기자

2019-05-30 08:45