[헬로티] 국내 연구진이 반도체 선폭 미세화의 장애물인 파티클 이슈를 해결할 수 있는 내플라즈마성 나노구조 복합세라믹 제조 기술을 국내 최초로 개발하는 데 성공했다. 과학기술정보통신부 산하 정부출연연구기관인 한국재료연구원(KIMS, 원장 이정환) 엔지니어링세라믹연구실 박영조 박사 연구팀은 ㈜미코세라믹스(대표 여문원)와 공동연구를 통해 반도체 제조장비 내부의 오염입자 저감이 기대되는 내플라즈마성 세라믹 신소재를 국내 최초로 개발했다. 반도체 제조 시 일반적으로 플라즈마를 이용한 식각 공정을 실시한다. 이때 실리콘 웨이퍼는 물론 장비 내부의 구성 부품도 플라즈마 조사에 노출되어 오염입자를 발생시킴으로써 칩 불량의 주요한 원인이 되고 있다. 반도체 선폭이 미세화될수록 고출력의 플라즈마 식각이 요구되기 때문에 오염입자 발생을 최소화하기 위한 내플라즈마성 신소재 개발이 절실히 요구되는 추세이다. 소재의 식각을 위해 플라즈마를 조사할 때 오염입자를 방지하기 위한 두 가지 변수는 ‘낮은 식각율’과 ‘작은 표면조도’의 유지이다. 연구팀은 이미 확보된 투명 세라믹 개발 과정에 사용된 무기공 이론밀도 치밀화 소결기술을 이트리아·마그네시아(Y2O3·MgO) 복합세라믹에 적용해
[헬로티] 삼성전자가 반도체 소재·부품·장비(소부장) 협력사 4곳에 유상증자 참여를 통해 약 740억원을 투자했다. 삼성전자는 2일 제3자 배정 유상증자 방식으로 반도체 장비용 세라믹 부품 제조사인 미코세라믹스에 216억7천만원, 반도체·디스플레이 공정에 사용되는 전공정 장비 제조사 케이씨텍에 207억2천만원을 투자했다. 아울러 반도체용 진공펌프 제조사 엘오티베큠에 189억9천만원, 반도체·디스플레이 공정 부품 제조사 뉴파워프라즈마에 127억4천만원 등을 투자했다. 삼성전자 관계자는 "투자에 특별한 배경이 있는 것은 아니고 기존 협력사에 대한 협력 강화 차원의 투자"라고 설명했다. 앞서 삼성전자는 지난 7월에도 소재·부품·장비 중소기업 2곳에 유상증자 참여로 1천133억원을 투자하기도 했다.