헬로티 서재창 기자 |

ACM 리서치가 글로벌 주요 반도체 제조기업으로부터 자사의 Ultra C SAPS 전면 세정 장비에 대한 평가판을 수주했다고 밝혔다. 장비 납품은 2022년 1분기에 이 고객사의 중국 내 개발 팹에 설치될 예정이다.

ACM 리서치의 대표이사 CEO인 데이비드 왕(David Wang) 박사는 “중국에서 팹을 가동하고 있는 글로벌 반도체 회사로부터 받은 이번 주문 건은 우리에게 엄청난 기회”라고 밝혔다.

이어 그는 “이 반도체 회사는 당사의 R&D 능력과 생산공정 향상을 위한 노력의 일환으로 ACM의 SAPS 기술을 평가해보기로 결정했다. 이번 장비 평가를 성공적으로 완료함으로써 우리는 이 고객사를 포함해 이 지역의 다른 주요 고객과도 비즈니스 및 협력 기회를 이어갈 것으로 기대한다”고 말했다.

ACM 리서치의 SAPS(Space Alternated Phase Shift) 첨단 웨이퍼 세정 기술은 메가소닉 변환기와 웨이퍼 사이의 틈에서 메가소닉 파동의 위상변화를 이용한다.

기존 메가소닉 웨이퍼 세정 시스템에 사용돼 온 고정형 메가소닉 변환기와 달리, SAPS 기술은 웨이퍼가 회전하는 동안 변환기를 움직이거나 기울임으로써, 웨이퍼가 휘는 경우에도 웨이퍼의 모든 지점에 메가소닉 에너지가 균일하게 전달되도록 한다. 

SAPS 기술은 기존 메가소닉 세정 방식보다 처리 속도가 훨씬 더 빠르고, 웨이퍼 표면을 손상하거나 소재 손실을 일으키지 않는다. 또한, 디바이스 기능에 손상을 입히지 않으면서 보다 철저하고 포괄적인 세정 능력을 구현할 수 있음을 10나노미터 이하의 초미세 공정에서까지 입증했다.