[헬로티]

삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 5나노 공정을 위한 파운드리 생산 시설을 구축한다. 

삼성전자는 2020년 2월 EUV 전용 화성 ‘V1 라인’ 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다.

▲삼성전자 평택캠퍼스 항공 사진

이번 투자는 삼성전자가 2019년 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치의 하나로 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다. 반도체 비전 2030에는 133조원을 투자해 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 내용이 담겼다.

삼성전자는 5월 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

현재 파운드리 시장에서 7나노 미만의 기술을 확보한 기업은 대만의 TSMC와 삼성전자가 유일하다. TSMC는 파운드리 시장에서 50% 이상의 점유율로 1위를 하고 있으나, 삼성전자는 아직까지 10% 후반대의 점유율로 TSMC와 큰 격차를 보이고 있는 상황이다. TSMC 또한 최근 미국 5나노 파운드리 공장 설립을 발표함에 따라 향후 양사의 고객사 확보 경쟁이 보다 심화될 것으로 전망된다. 

삼성전자는 2019년 4월 업계 최초로 UV 공정을 적용한 7나노 제품을 출하했다. 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 2020년 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.

TSMC 또한 올해 안으로 5나노 공정 생산에 돌입하겠다고 밝힌 바 있다. 

삼성전자 DS 부문 파운드리사업부 정은승 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 말했다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상되며 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.